• DuPontTM AmberTecTM UP6150 H/OH Resina de intercambio iónico de lecho mixto   18 MΩ·cm Polishing con agua ultrapura
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DuPontTM AmberTecTM UP6150 H/OH Resina de intercambio iónico de lecho mixto   18 MΩ·cm Polishing con agua ultrapura

DuPontTM AmberTecTM UP6150 H/OH Resina de intercambio iónico de lecho mixto 18 MΩ·cm Polishing con agua ultrapura

Datos del producto:

Lugar de origen: Porcelana
Nombre de la marca: Dupont
Certificación: ISO9001
Número de modelo: DUPONT ™ AMBERTEC ™ UP6150 H/OH
Documento: IER-AmberTec-UP6150-H-OH-PD...en.pdf

Pago y Envío Términos:

Cantidad de orden mínima: 1 pieza
Precio: Negociable
Detalles de empaquetado: Embalaje estándar de exportación
Tiempo de entrega: 5- 8 días de trabajo
Condiciones de pago: T/T
Capacidad de la fuente: 60000 unidades por mes
Mejor precio Contacto

Información detallada

Rango de temperatura: 15 - 25 ° C (59 - 77 ° F) Rango de pH: 0-14
Peso de envío: 730 g/L Resistividad (UPW): ≥ 18 MΩ · cm
Resistividad (Sal): ≥ 18 MΩ · cm Capacidad de intercambio: ≥ 1,80 eq/L
Resaltar:

Resina de intercambio iónico de DuPont AmberTec UP6150

,

Polido con agua ultrapura de resina de lecho mixto

,

Resina para tratamiento de agua de 18 MΩ·cm

Descripción de producto

DuPontTM AmberTecTM UP6150 H/OH Resina de intercambio iónico de lecho mixto 18 MΩ·cm Polishing con agua ultrapura
Resumen del producto

DuPontTM AmberTecTM UP6150 H/OH es una resina de intercambio iónico de lecho mixto de tamaño de partícula uniforme y totalmente regenerada, separable y diseñada específicamente para el pulido final en sistemas de agua ultrapura (UPW).En sistemas diseñados adecuadamente, proporciona agua de 18 MΩ·cm de resistividad con niveles totales de carbono orgánico (TOC) muy por debajo de 5 ppb en su primer ciclo de funcionamiento.Fabricación de células solares fotovoltaicas, y otras aplicaciones de agua de alta pureza que requieren una limpieza iónica y orgánica excepcional.

DuPont AmberTec UP6150 mixed bed resin product
Aplicaciones
  • Polishing final desionización de lecho mixto en sistemas de agua ultrapura (UPW)
  • Fabricación de semiconductores de gama baja
  • Producción de paneles de pantalla
  • Industria de las células fotovoltaicas
  • Polido con agua de alta pureza después de ósmosis inversa (RO) y electrodeionización (EDI)
Diseños de sistemas compatibles
  • Las demás máquinas y aparatos de limpieza y limpieza
  • Sistemas de camas mixtas
  • Cartuchos recargables para desionización portátil de intercambio (PDI / IX)
  • Circuitos de pulido con agua de alta pureza
Propiedades típicas
Propiedades físicas y químicas:
Propiedad Resina catiónica Resina de aniones
Copolímero El estireno-divinilbenceno El estireno-divinilbenceno
Matriz Gelado Gelado
Tipo de producto Catio ácido fuerte Anión de base fuerte, tipo I
Grupo funcional Ácido sulfónico Trimetilamonio
Forma física Perlas esféricas translúcidas de color ámbar oscuro Perlas esféricas translúcidas amarillas
Forma iónica tal como se envía H+ ¿Qué es esto?
Capacidad de cambio total ≥ 1,80 eq/L ≥ 1,00 eq/L
Capacidad de retención de agua 49 a 55% 60 a 66%
Conversión iónica (H+) ≥ 99% - ¿Qué quieres decir?
Conversión iónica (OH−) - ¿Qué quieres decir? ≥ 95,0%
Conversión iónica (CO2−) - ¿Qué quieres decir? ≤ 5,0%
Conversión iónica (Cl−) - ¿Qué quieres decir? ≤ 0,5%
Distribución del tamaño de las partículas:
Parámetro Resina catiónica Resina de aniones
Diámetro de las partículas 630 ± 50 μm 730 ± 50 μm
Coeficiente de uniformidad ≤ 125 ≤ 125
< 300 μm ≤ 0,1% ≤ 0,3%
> 850 μm ≤ 10,0% ≤ 10,0%
Para obtener información adicional sobre el tamaño de las partículas, véase el documento n.o: 45-D00954-en.
Prestación y condiciones de funcionamiento
Resultados del ensayo de calidad del agua ultrapura:
  • Resistencia (enjuague por UPW, 10 min):≥ 18 MΩ·cm
  • Resistencia (desafío de sal, 10 minutos):≥ 18 MΩ·cm
  • Δ TOC (2h00 Enjuague):≤ 10 ppb C
Condiciones de funcionamiento recomendadas:
  • Rango de temperatura:15 - 25°C (59 - 77°F)
  • Rango de pH (estable):0 a 14 años
  • Peso de envío:730 g/l
El funcionamiento a temperaturas elevadas (por ejemplo, >60-70°C) puede afectar a la pureza del sistema y a la vida útil de la resina.
Características hidráulicas
  • Baja de presión:La caída de presión estimada en función del caudal de servicio y la temperatura del agua se muestra en la figura 1 (véase el documento original para curvas detalladas).
  • Rendimiento del enjuague:Las curvas típicas de resistividad y TOC del enjuague en función del tiempo de enjuague se muestran en la figura 2.
Notas de seguridad y normativas
Advertencia:Los agentes oxidantes fuertes (por ejemplo, el ácido nítrico) pueden atacar la resina bajo ciertas condiciones, lo que conduce a la degradación o reacciones violentas.

Se alienta a los usuarios a revisar los procesos y aplicaciones de fabricación desde la perspectiva de la salud, la seguridad y el medio ambiente.

Consulte la última ficha de datos de seguridad (FDS) antes de su uso y asegúrese de cumplir con la normativa local.

Para los casos de solicitud, visite:El objetivo de la medida es reducir el riesgo de incumplimiento.

FG Water Technologies facility

Quiere saber más detalles sobre este producto
No input file specified. DuPontTM AmberTecTM UP6150 H/OH Resina de intercambio iónico de lecho mixto 18 MΩ·cm Polishing con agua ultrapura ¿podría enviarme más detalles como tipo, tamaño, cantidad, material, etc.?
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