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AmberTecTM UP6040 Resina de intercambio iónico de lecho mixto H/OH para agua ultrapura con 18 MΩ*cm de resistividad y baja contribución TOC
Datos del producto:
| Lugar de origen: | Porcelana |
| Nombre de la marca: | Dupont |
| Certificación: | ISO 9001 |
| Número de modelo: | DUPONT ™ AMBERTEC ™ UP6040 H/OH |
Pago y Envío Términos:
| Cantidad de orden mínima: | 1 juego |
|---|---|
| Precio: | Negociable |
| Detalles de empaquetado: | Caja/cartón de madera de exportación estándar o desnudo envuelto con película |
| Tiempo de entrega: | 7 días laborables |
| Condiciones de pago: | T/T, Western Union, PayPal, etc. |
| Capacidad de la fuente: | 60000 unidades por mes |
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Información detallada |
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| Copolímero: | Estireno-divinilbenceno | Matriz: | Gel |
|---|---|---|---|
| Tipo: | Catión ácido fuerte | Grupo Funcional: | Ácido sulfónico |
| Forma física: | Cuentas esféricas, translúcidas y de color ámbar oscuro. | ||
| Resaltar: | Resina de intercambio iónico de lecho mixto de resistividad de 18 MΩ*cm,Resina de pulido con agua ultrapura de bajo aporte de TOC,Resina catiónica de ácido fuerte Resina de intercambio iónico H/OH |
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Descripción de producto
La Resina de Intercambio Iónico de Lecho Mixto H/OH AmberTec™ UP6040 es una resina de desionización de lecho mixto de grado premium diseñada para aplicaciones de pulido final en sistemas de tratamiento de agua ultrapura (UPW). Combinando una resina catiónica de ácido fuerte de alta capacidad en forma H⁺ y una resina aniónica de base fuerte en forma OH⁻, esta resina de lecho mixto completamente regenerada proporciona un rendimiento excepcional de eliminación iónica y ayuda a lograr una calidad de agua de resistividad ultra alta.
Diseñada para industrias exigentes que requieren agua extremadamente limpia, AmberTec™ UP6040 H/OH ofrece un rendimiento de pulido estable con una fuga iónica muy baja y una liberación orgánica controlada. Se aplica ampliamente en la fabricación de semiconductores, la producción fotovoltaica, sistemas de agua farmacéutica, purificación de laboratorio e instalaciones de generación de energía.
La resina está optimizada para su uso después de ósmosis inversa (RO), electrodeionización (EDI) u otros procesos de desionización donde se requiere una mejora de la calidad final del agua.
Diseñada para purificación en etapa final:
- Produce calidad de agua hasta:Resistividad de 18 MΩ·cm
- Fuga iónica extremadamente baja
- Baja contribución de TOC
- Adecuada para aplicaciones críticas de UPW
El sistema de resina combina:
- Forma iónica: H⁺
- Alta capacidad de intercambio
- Eliminación eficiente de iones cargados positivamente
- Forma iónica: OH⁻
- Forma hidróxido de alta pureza
- Eliminación efectiva de iones cargados negativamente
Juntas proporcionan eliminación continua de iones y rendimiento de pulido de alta calidad.
- Agua de limpieza de obleas
- Agua de proceso ultrapura
- Fabricación de microelectrónica
- Agua de producción de alta pureza
- Procesos de fabricación de celdas
- Sistemas de agua purificada
- Agua de alta pureza para laboratorio
- Tratamiento de agua de proceso crítico
- Pulido de agua de alimentación de calderas
- Sistemas de agua circulante de alta pureza
- Vasos de pulido de lecho mixto
- Sistemas de desionización de lecho empacado
- Cartuchos de resina reemplazables
- Sistemas de desionización de intercambio portátil
- Bucles de circulación de agua de alta pureza
| Propiedad | Resina Catiónica | Resina Aniónica |
|---|---|---|
| Estructura del Polímero | Estireno-DVB | Estireno-DVB |
| Tipo de Matriz | Gel | Gel |
| Grupo Funcional | Ácido Sulfónico | Trimetilamonio |
| Tipo de Resina | Catiónico de Ácido Fuerte | Aniónico de Base Fuerte Tipo I |
| Forma Iónica | H⁺ | OH⁻ |
| Capacidad Total de Intercambio | ≥2.00 eq/L | ≥1.10 eq/L |
| Capacidad de Retención de Agua | 45-51% | 54-60% |
| Conversión Iónica | ≥99% H⁺ | ≥95% OH⁻ |
| Rango | Resina Catiónica | Resina Aniónica |
|---|---|---|
| Diámetro de Partícula | 525 ± 50 µm | 630 ± 50 µm |
| Coeficiente de Uniformidad | ≤1.20 | ≤1.20 |
| Partículas Finas | ≤0.1% (<300 µm)-- | Características de Rendimiento |
| ≤5.0% (>850 µm) | -- | Características de Rendimiento |
| Rango | Resistividad de Enjuague UPW (10 min) |
|---|---|
| ≥18 MΩ·cm | ΔTOC después del enjuague |
| ≥18 MΩ·cm | ΔTOC después del enjuague |
| ≤3 ppb C | Condiciones de Operación Recomendadas |
| Rango | Temperatura de Operación |
|---|---|
| 15-25 °C | Rango de pH Estable |
| 0-14 | Peso de Envío |
| Aprox. 710 g/L | Garantía de Calidad |
Pruebas de enjuague de resistividad
- Pruebas de rendimiento de TOC
- Verificación del rendimiento cinético
- Esto asegura una calidad de resina consistente para aplicaciones exigentes de agua ultrapura.
Notas de Seguridad y Manejo
Los usuarios deben revisar la documentación de seguridad relevante y seguir los procedimientos de manejo recomendados para garantizar un rendimiento de resina seguro y confiable.
AmberTec™ UP6040 H/OH – Solución de Pulido Final Confiable para Agua Ultra Pura
